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专利技术交底书书写格式

专利技术交底书书写格式

的有关信息介绍如下:

专利技术交底书书写格式

专利技术交底书是对发明或实用新型专利的实质内容进行详细阐述的必要文件,交底书体现的核心内容决定着该发明或实用新型申报的成功与否。

所属领域

1、主要说明本发明(实用新型)所述领域范围,书写格式简洁明了。

2、举例说明:本发明(实用新型)涉及xxxxx领域,特别是涉及一种xxxxx的装置和方法。

背景技术

1、描述与本发明或实用新型技术方案最相近的现有技术方案,如果现有技术出自专利、期刊、书籍,则提供出处,并指出现有技术方案中存在的缺点。

2、缺点可以是成本高、处理时间慢等类似问题。

技术方案(内容)

清楚完整的叙述发明创造的技术方案,应结合工艺流程图、原理框图、电路图、仿真图、布局图、设备结构图进行说明,务必详细。

有益之处

本技术方案有何优点或有益效果,所述优点或有益效果是由本发明技术方案带来的。(可结合本技术的难点进行叙述,解决了XXX问题,实现了XXX的有益效果等等,文字简洁,具有概括意义,不宜长篇叙述)

附图

1、必须是黑色的线条图,最好是Cad或Visio格式的图,图中的线条不能有锯齿,图上要有标记,并写明各标记所代表的部件;

2、附图中必须详细体现本发明点所涉及的各部件的组成及连接关系,以及其与现有技术中所涉及部件的连接关系。

具体实施步骤

1、对于产品发明应描述产品构成、电路构成或者化学成分、各部分之间的相互关系、工作过程或操作步骤;

2、对于方法发明应写明步骤、参数、工艺条件等,可提供多个具体实施方式。